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                    氟化鎂鍍膜

                    2020-03-05

                    鍍膜主要是為了減少反射,為了提高鏡頭的透光率和影像的質量。在現代鏡頭制造工藝上都要對鏡頭進行鍍膜。鏡頭的鍍膜是根據光學的干涉原理,在鏡頭表面鍍上一層厚度為四分之一波長的物質(通常為氟化物),使鏡頭對這一波長的色光的反射降至最低。一層膜只對一種色光起作用,而多層鍍膜則可對多種色光起作用。多層鍍膜通常采用不同的材料重復地在透鏡表面鍍上不同厚度的膜層。多層鍍膜可大大提高鏡頭的透光率,例如,未經鍍膜的透鏡每個表面的反射率為5%,單層鍍膜后降至2%,而多層鍍膜可降至0.2%,這樣可大大減少鏡頭各透鏡間的漫反射,從而提高影像的反差和明銳度。


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                    氟化鎂是鍍膜材料的一種,氟化鎂晶體(MgF2)屬于四方晶系,熔點為1255℃,硬度高,機械性能好,化學性能穩定,不易潮解和腐蝕,光學性能方面其主要特點是在真空紫外波段具有較高的透過率(170nm透過率仍在80%以上),被廣泛應用于光纖通信,軍工領域及各種光學元件。


                    氟化鎂鍍膜主要應用:在普通的鋼化玻璃表面鍍膜,從而提高了鋼化玻璃表面的透光率以及實現了易清潔功能,同時還延長了玻璃的壽命。AR鍍膜玻璃目前可主要用于太陽能電池組件,光熱,建筑,汽車玻璃等領域。


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                    氟化鎂鍍膜用蒸發法,通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面,稱為蒸發鍍膜。這種方法最早由法拉第于1857年提出,現代已成為常用鍍膜技術之一。蒸發物質如金屬,化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源,待鍍工件如金屬,陶瓷,塑料等基片置于坩堝前方。待系統抽至高真空后,加熱坩堝使其中的物質蒸發,蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米,膜厚決定于蒸發源的蒸發速率和時間(或決定于裝料量),并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程,以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用把優質玻璃單面或雙面進行工藝處理,使其與普通玻璃相比具有較低的反射比,使光的反射率降低到1%以下,普通玻璃在可見光范圍內,它的單側反射率約為4%,總的光譜反射率約為8%。


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                    愛特斯光學是一家專業的真空鍍膜材料生產廠家,其生產的氟化鎂深受廣大用戶喜愛,并且規格尺寸可根據客戶要求定制,歡迎洽談合作!


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